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半导体加工废水处理案例|半导体加工废水处理方法

的项目背景图案 该光电器件行业单位为于长半圆地区划分,包括生产销售方式85厘米和125厘米晶圆,日尾气废气排放原则废排水量约2000吨。致使光电器件行业生产销售方式工序更复杂,废液有效成分各式各样且含有多样难化学降解化学物质,单位已有加工配套设施无发满足了也日益坚持原则的干净尾气废气排放原则原则,故投入资金三千万元兴建正规废液加工站。 污废水 部分及来源地 该公司生产废水首要可分为几类: 含氟生产废水:原因于晶圆蚀刻、的洗涤生产工艺,氟亚铁离子盐浓度达2000mg/L; 生产工业废水:来源光刻、显影液等工艺设备,包含有异丙醇、甲苯等生产高沸点溶剂,COD值在5000mg/L前后; 碱酸工业废水:引发于家电清洗和从表面整理要素,pH值变化大; 含铜污水:源于真空电镀和合金热艺,铜正离子含量约150mg/L。 补救施工工艺具体流程 共性与众不同经营性质的化工废水,通过"分类管理获取+分质加工+终端深层次加工"的乐队组合流程: 含氟焦化废水进行处理线: 两极电学沉淀出的自己:先加药氯化钙转换pH至6-7,再加上入PAC和PAM水解酸化池沉淀出的自己; 活力性硫化铝过滤:保持氟正离子溶液浓度调至8mg/L接下来。 巧妙焦化废水清理线: 微电解设备不良反应:铁碳人工湿地填料床预处置升高生产废水可什么是生化性; UASB厌氧发酵响应器:HRT=24h,COD取除率65%; MBR膜生物制品想法器:选用PVDF中空玻璃窗合成纤维膜,溢水COD<50mg/L。 腐蚀性焦化废水采和系统化: 半自动pH调整:确认再线监测技术仪调整加酸加碱量; 斜板积累池积累:剔除结合诞生的自动隐藏物。 含铜废气清理: 物理化学积淀:加药NaOH调控pH至9-10,养成氢脱色铜积淀; 阴亚铁离子对换:切实保障铜阴亚铁离子浓度值<0.3mg/L。 长度治理单园: O3促使脱色:进那步化学降解难拆解无机物; 可溶性炭进行过滤:快速清理颜色和轻微危害物; UV太阳极为线空气消毒:确保水流分子生物学技术招生指标未达标。 终于成效 楼盘加载后,出液水质检测稳定性提高《电子技术化工业水环保问题物排卸规则》(GB 39731-2020)有点排卸规定值请求,在其中氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜<0.3mg/L。去年可抑制氟化物排卸约120吨,COD排卸约400吨,收购 水教育资源约70万吨。机系统一键化系数高,加载代价的控制在8.5元/吨水作用。

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