重庆某半导电子器件生产厂，晶圆粗加工过程中 中所产生含硅、氟的特别废污水，设计解决数量1200吨/日。废污水组成复杂的，包含的微米级硅颗粒状及盐酸，普通解决方式 得以达到标准。 工业废水成份及因素 注意空气挥发性有机物 ：固体硅（100-500nm比表面积）、氟铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 特征道工序 ：晶圆刻蚀化工废水处理工艺（45%）、CMP生物学自动化拋光化工废水处理工艺（40%）、仪器清扫冲洗水（15%） 解决工艺设计环节 信息化用于"药剂学放置+独特的膜转移"技术水平行车路线： 钙盐放置 ：添加氯化钙出掉氟铁离子（转成CaF2放置） 斜管沉淀池反应迟钝 ：分手后复合水解酸化池剂确保电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm直径膜虚报冒领微细颗粒剂 反固化控制系统 ：脱盐率>98%，收购率75% 化掉成果 ：浓水段推动氟化物零排出 结果英文效率 氟化物含量：<8mg/L（超过一个国家6级规范10mg/L） 硅含磷量：<5mg/L 污水从而共享回收率：70%用以一系列圆形冷却塔补充水分 危废处理减轻：蒸馏沉渣量较传统意义艺才能减少60%