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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8屏幕尺寸晶圆制造线配套工程的超去离子水模式,每晚引发含硅废水加工方法150吨。废水加工方法中虽无高价属,但硅水平高易水垢,且阻值率需达到了18MΩ·cm方可造纸废水加工。原本加工施工工艺就没有办法需要满足新制定的《电子器件工业企业水影响物排污标准的》(GB39731-2020)很大排污卫生防护距离。 焦化废水的成分结构特征 核心废弃物物 :电解质溶液硅(200-300mg/L)、颗粒状硅(孔径0.1-1μm) 特有想要 :TOC<10μg/L,硼分量<5μg/L 水的硬度优点 :低导电率(<50μS/cm)但硅有机化合物性状缜密 治理 制作生产流程图 科学创新用到"梯级膜脱离+电去化合物"结构加工制作工艺 : 微滤预操作 :1μm陶瓷图片膜手机拦截大颗粒剂硅,通量维系80LMH 阳离子交互光敏树脂 :D201大孔不饱和树脂选泽性吸附物硅酸碳原子 两级RO设计 :第1段收集率60%,第二名段用于高脱硼膜元器件封装 EDI电去化合物 :交流电强度2A/m²,定期取除残留物正离子 紫外线除臭 :254nm太阳光的紫外线灯线含量40mJ/cm² 高技术优点 开发设计常用阻硅剂(无机胺类包覆物),减慢膜环保问题期限3倍 EDI信息模块多元化流道来设计,硅去掉率的提升至99.8% 优酷云硅分折仪(精确测量区间0.1-500μg/L)实现目标精确把控 程序运行阶段性成果 经3方查测: 总硅从280mg/L下降0.05mg/L 硼纯度从8μg/L降到0.3μg/L 体统收旧率从原40%增加至68% 膜改换频次拉长至5年,年正常运行价格缩减35%

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