该晶圆营造厂坐落苏北地，重要生產85英寸半导体芯片晶圆，单日工业废水消费量下跌量约800吨。考虑到生產时候中选择非常多的盐酸开始晶圆蚀刻，影响工业废水下氟化物浓硫酸浓度高至200-300mg/L，远超的国家消费量下跌基准（10mg/L下）。 化工废水基本成分及来源地 废水处理工艺包括来源以下三个缓解： 晶圆蚀刻繁琐流程 ：含高质量浓度氟化物（HF）、氰化钠及一少部分巨资属 催化机械化cnc精密机械加工（CMP）生活污水 ：含纳米级级硅颗料、生物碳络合剂 机洗涤焦化废水 ：含异丙醇、挥发酚等有机会物 进行处理制作工艺标准流程 用到"普通机械沉垫+混凝土沉垫+进一步过滤体系"三级视频外理体系： 1阶段治理 ：加药氯化钙和氢硫化钙，形成了氟化钙放置，氟化物取除率达85% 一级整理 ：加入PAC（配位碱式氯化铝）和PAM（pp聚丙烯酰胺），我们要除固体态污染问题物 三级考试加工处理 ：借助多物料过滤系统器和可溶性炭吸，喷水氟化物有机废气浓度可靠在8mg/L一些 要素整体分为：pH全自动自动调节整体、斜管石雕文化污水浓缩池、板框压泥机（污水脱水烘干）。 决定性郊果 内容正常运作四年监控大数据信息显示： 氟化物年均浓度值：7.2mg/L（如果低于政府规范标准） COD彻底清除率：92% 活性污泥水分含量率：≤65% 年收集氟化钙副护肤品约150吨，达到网络循环经济凭借